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非接觸電阻率測(cè)試儀的使用指南,不可錯(cuò)過(guò)
遷移率測(cè)試儀:準(zhǔn)確的遷移速率數(shù)據(jù)
產(chǎn)品中心/ products
隨著光伏產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的提升已成為行業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。在光伏電池片的生產(chǎn)中,方阻檢測(cè)是確保電池片質(zhì)量和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。傳統(tǒng)的方阻檢測(cè)方法大多依賴(lài)接觸式測(cè)試,這不僅容易損傷材料,還難...
主要利用結(jié)光電壓技術(shù)非接觸測(cè)試具有P/N或N/P結(jié)構(gòu)的樣品的方阻(發(fā)射極薄層方阻),本儀器為非接觸,非損傷測(cè)試,具有測(cè)試速度快,重復(fù)性佳,測(cè)試敏感性高,可以直接測(cè)試產(chǎn)品片等優(yōu)點(diǎn)。
在霍爾效應(yīng)傳感器中,自由電子的移動(dòng)能力通過(guò)遷移率來(lái)量化,這是衡量電子在材料中移動(dòng)難易程度的關(guān)鍵指標(biāo)。遷移率典型范圍一般在5至50平方厘米/伏秒之間詳情介紹?我公司特點(diǎn)非接觸霍爾遷移率(Hall mob...
在霍爾效應(yīng)傳感器中,自由電子的移動(dòng)能力通過(guò)遷移率來(lái)量化,這是衡量電子在材料中移動(dòng)難易程度的關(guān)鍵指標(biāo)。遷移率典型范圍一般在5至50平方厘米/伏秒之間
即少數(shù)載流子壽命。光生電子和空穴從一開(kāi)始在半導(dǎo)體中產(chǎn)生直到消失的時(shí)間稱(chēng)為壽命。載流子壽命就是指非平衡載流子的壽命。而非平衡載流子一般也就是非平衡少數(shù)載流子(因?yàn)橹挥猩贁?shù)載流子才能注入到半導(dǎo)體內(nèi)部、并積...
外延電阻率方阻測(cè)試儀:外延是半導(dǎo)體工藝當(dāng)中的一種。在bipolar工藝中,硅片最底層是P型襯底硅(有的加點(diǎn)埋層);然后在襯底上生長(zhǎng)一層單晶硅,這層單晶硅稱(chēng)為外延層;再后來(lái)在外延層上注入基區(qū)、發(fā)射區(qū)等等...
襯底電阻率方阻測(cè)試儀:襯底,或稱(chēng)基片(substrate),是指在半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中用來(lái)支持其他材料或結(jié)構(gòu)的底層材料。襯底的物理性質(zhì)包括其晶體結(jié)構(gòu)、機(jī)械強(qiáng)度、熱導(dǎo)率、膨脹系數(shù)等,而化學(xué)性質(zhì)則涵蓋其純...
玻璃方阻測(cè)試儀應(yīng)用ITO導(dǎo)電玻璃的時(shí)候,往往會(huì)提到一個(gè)重要的參數(shù),這個(gè)參數(shù)就是:方阻,也稱(chēng)方塊電阻。同時(shí),我們也可以將其理解為ITO的表面電阻率。
金屬薄膜方阻測(cè)試儀:金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱(chēng)膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測(cè)量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無(wú)關(guān),其單...
氧化鎵電阻率方阻測(cè)試儀:Ga2O3是一種透明的氧化物半導(dǎo)體材料,在光電子器件方面有廣闊的應(yīng)用前景,被用作于Ga基半導(dǎo)體材料的絕緣層,以及紫外線(xiàn)濾光片。它還可以用作O2化學(xué)探測(cè)器
氮化鎵電阻率方阻測(cè)試儀:氮化鎵是一種無(wú)機(jī)物,化學(xué)式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。此化合物結(jié)構(gòu)類(lèi)似纖鋅礦,硬度很高。
碳化硅電阻率方阻測(cè)試儀:1、電阻率ρ不僅和導(dǎo)體的材料有關(guān),還和導(dǎo)體的溫度有關(guān)。在溫度變化不大的范圍內(nèi):幾乎所有金屬的電阻率隨溫度作線(xiàn)性變化,即ρ=ρ0(1+at)。式中t是攝氏溫度,ρ0是O℃時(shí)的電阻...
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